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Institute for sustainable chemistry & catalysis with boron - ICB

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Schema 1

By combining common transition metal chlorides and 1,2,4-1H-triazole under a range of different conditions, the research group of Prof. Dr. Klaus Müller-Buschbaum (Institut für Anorganische Chemie) has realised a library of compounds with potential use as dielectric elements in electronics. The compounds prepared, with diverse structures from discrete complexes to extended coordination polymers, were shown to have dielectric properties ranging from "low-k" to "high-k". So-called "low-k" dielectric materials are expected to be important components as microscopic insulators in future electronic devices, and high-k materials have the potential to gate microcurrents.

 

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Professor Holger Braunschweig und seine Mitarbeiter Achim Schneider und Dr. Krzysztof Radacki (von links) im Labor. Die Würzburger Chemiker haben weltweit erstmals eine stabile Bor-Sauerstoff-Dreifachbindung erzeugt. Foto: Gunnar Bartsch

Weltpremiere: Chemikern der Universität Würzburg ist es erstmals gelungen, eine stabile Dreifachbindung zwischen den Elementen Bor und Sauerstoff zu knüpfen. Über diesen Erfolg berichtet die Top-Zeitschrift „Science“.

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Der Anorganische Chemiker Holger Braunschweig ist neuer Leibniz-Preisträger an der Universität Würzburg. In den kommenden sieben Jahren wird er von der Deutschen Forschungsgemeinschaft DFG bis zu 2,5 Millionen Euro erhalten, um seine Forschungsarbeiten voranzutreiben. Braunschweig arbeitet auf einem Gebiet, von dem er selbst sagt, „dass es sehr grundlagenorientiert ist“. Umso mehr freue es ihn, dass ihm die DFG den Preis zuerkannt hat.

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Prof. Dr. Braunschweig überreicht Prof. Mathur zum Abschied ein Korb mit Bocksbeutel

Prof. Dr. Sanjay Mathur wechselt Ende April auf eine W3-Professur für Anorganische Chemie an die Universität zu Köln. Prof. Mathur war seit dem Sommersemester 2006 am Institut für Anorganische Chemie mit seiner Arbeitsgruppe tätig.

Sein wissenschaftlicher Schwerpunkt lag in dieser Zeit auf der Synthese von Nanomaterialien und Schichtsystemen mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD, chemical vapour deposition) unter Einsatz neuer metallorganischer Vorstufen.

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